半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例
新项目原型
该各个企业非常专业制作半导体行业用高纯氟化氢和六氟化钨,废气氟密度挺高且营养成分冗杂。原始整理工学艺的效果不稳固,氟化物排放物时不时超出标准。业务资金21000万元投建帮忙整理配制,设计的整理学习能力500吨/天。
废污水成份及种类
污废水 最主要的来自五湖四海加工专用设备冲洗和烟粉尘清洗:
氟阴离子氧浓度:1500-3500mg/L
含氢氧化钠根阳离子:2000-5000mg/L
pH值:1-
含少量钨、钼等塑料风格
除理工艺技术的流程
采取高含量特质,用于"中合+单级滤渣+膜加工"新工艺:
废污水搜集池:细分搜集与众不同氧化还原电位废污水
中合体现池:分一阶段污泥脱水氢脱色的钠和氢脱色的钙,操控最中pH至7.5-8.
二沉池不起作用池:添加PAC和PAM提升沉淀物中视觉效果
斜管析出池:优质固液分离处理
多导电介质过滤程序器:删去犬细小颗粒状
反融入整体:淬硬层脱盐和除氟
废水提液烘干模式:离心法烘干后废水建筑垃圾清运专业课程代理
在线上评估系统软件:雷达回波图监控录像氟阴阳离子浓硫酸浓度和pH值
不可能效率
清理系统化正常运作资料:
存水氟铝离子均衡盐浓度:2800mg/L
出水出水氟亚铁离子盐浓度:3.2mg/L(月均)
氟彻底清除率:99.9%上
水循环率:符合65%
系統系统机械化的程度高,实现目标废气办理成本费用降低30%,年二手回收氟化钙副服务约400吨。